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	磁控溅射法LaMnO_3帽子层的外延生长探究
	鲁玉明[1]; 闫祥发[2]; 范峰[3]; 梁玉[4]; 白传易[5]; 刘志勇[6]; 郭艳群[7]; 朱红艳[8]; 范晓鹏[9]; 蔡传兵[10]
刊名	低温物理学报
	2016
卷号	38页码:28-32
关键词	帽子层 直流磁控溅射 涂层导体
ISSN号	1000-3258
URL标识	查看原文
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2228857
专题	上海大学
作者单位	[1] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[2] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[3] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[4] 上海市上创超导科技有限公司, 上海 201401, 中国[5] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[6] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[7] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国[8] 上海市上创超导科技有限公司, 上海 201401, 中国[9] 上海市上创超导科技有限公司, 上海 201401, 中国[10] 上海大学物理系, 上海市高温超导重点实验室, 上海 200444, 中国
推荐引用方式 GB/T 7714	鲁玉明[1],闫祥发[2],范峰[3],等. 磁控溅射法LaMnO_3帽子层的外延生长探究[J]. 低温物理学报,2016,38:28-32.
APA	鲁玉明[1].,闫祥发[2].,范峰[3].,梁玉[4].,白传易[5].,...&蔡传兵[10].(2016).磁控溅射法LaMnO_3帽子层的外延生长探究.低温物理学报,38,28-32.
MLA	鲁玉明[1],et al."磁控溅射法LaMnO_3帽子层的外延生长探究".低温物理学报 38(2016):28-32.

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