溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究 | |
王佳良 刘贤哲 邓宇熹 袁炜键 周尚雄 张啸尘; 姚日晖; 宁洪龙; 彭俊彪 | |
刊名 | 《光学学报》
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2018 | |
卷号 | 38页码:393-399 |
关键词 | 薄膜 氧化锡薄膜 溶液法 等离子表面处理 退火温度 光学带隙 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2169685 |
专题 | 华南理工大学 |
作者单位 | 华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室,广东广州510640 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王佳良 刘贤哲 邓宇熹 袁炜键 周尚雄 张啸尘,姚日晖,宁洪龙,等. 溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究[J]. 《光学学报》,2018,38:393-399. |
APA | 王佳良 刘贤哲 邓宇熹 袁炜键 周尚雄 张啸尘,姚日晖,宁洪龙,&彭俊彪.(2018).溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究.《光学学报》,38,393-399. |
MLA | 王佳良 刘贤哲 邓宇熹 袁炜键 周尚雄 张啸尘,et al."溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究".《光学学报》 38(2018):393-399. |
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