掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法; 掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法 | |
陈丹平 ; 夏金安 ; 邱建荣 ; 朱从善 | |
2006-06-14 | |
专利国别 | 中国 |
专利号 | ZL200410024820 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
中文摘要 | 一种掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法,主要是用溶液浸渍法将0.2~8.0wt%的钕离子分散在具有纳米级孔的SiO2的含量超过95%的高硅氧微孔玻璃中,为了增强钕离子的发光强度,同时还浸入Y3+、V5+和Al3+离子。在空气或者氧气中经过1000℃-1200度℃温度的固相烧成消除了微孔的密实透明的高硅氧玻璃。该玻璃经过精密抛光后在激光谐振腔中经808nm的激光泵浦可以发出1060nm激光。这种玻璃材料适合用于制备微片激光器。 |
公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
申请日期 | 2004-06-01 |
收录类别 | 专利 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN200410024820.0 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10030] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈丹平,夏金安,邱建荣,等. 掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法, 掺钕高硅氧激光玻璃的制造方法. ZL200410024820. 2006-06-14. |
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