蓝宝石基氮化物芯片减薄划片的方法; 蓝宝石基氮化物芯片减薄划片的方法
徐军 ; 彭观良 ; 周圣明 ; 周国清 ; 蒋成勇 ; 王海丽 ; 李抒智 ; 赵广军 ; 张俊计 ; 刘军芳 ; 邹军 ; 王银珍 ; 吴锋 ; 庄漪
2006-12-27
专利国别中国
专利号ZL200310108613.9
专利类型发明
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
中文摘要一种蓝宝石基氮化物芯片的减薄划片方法,包括下列步骤:成对地将蓝宝石基氮化物芯片贴成氮化物芯片夹心饼;将氮化物芯片夹心饼送入铂金坩埚并置于或悬于铂金丝上,在该坩埚内,放置带气孔的γ-LiAlO2和Li2O混合料块,料块上部有铂金片,覆盖有γ-LiAlO2和Li2O混合粉料并配备有热电偶的坩埚盖,坩埚顶部加铂金盖密闭,置于电阻炉中;该电阻炉加热升温至750-900℃,恒温80-200小时,氧化锂扩散到蓝宝石晶片中,发生固相
公开日期2011-07-14 ; 2011-07-15
申请日期2003-11-14
收录类别专利
语种中文
专利申请号CN200310108613.9
内容类型专利
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/9998]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
徐军,彭观良,周圣明,等. 蓝宝石基氮化物芯片减薄划片的方法, 蓝宝石基氮化物芯片减薄划片的方法. ZL200310108613.9. 2006-12-27.
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