垂直温梯法生长掺四价铬硅酸镁晶体的方法; 垂直温梯法生长掺四价铬硅酸镁晶体的方法
徐军 ; 李红军 ; 周圣明 ; 司继良 ; 周国清 ; 赵广军 ; 赵志伟
2005-12-28
专利国别中国
专利号ZL200310108486.2
专利类型发明
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
中文摘要一种垂直温梯法生长掺四价铬硅酸镁晶体的方法,包括如下步骤:在温梯炉坩埚的的籽晶槽内放入定向籽晶;在x=0~0.05的范围内选定x的具体值,按(1+x)∶1比例配备高纯MgCO3和SiO2粉料,按该粉料总量掺入0.18~0.40wt%的氧化铬(Cr2O3),在混料机中机械混合;用压料机压块成形,直接装入坩埚中,加上坩埚盖,将坩埚密封,置于温梯炉中;边抽真空边升温至600C,充入高纯氩气;持续升温至熔体温度约1890℃±1
公开日期2011-07-14 ; 2011-07-15
申请日期2003-11-07
收录类别专利
语种中文
专利申请号CN200310108486.2
内容类型专利
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/9994]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
徐军,李红军,周圣明,等. 垂直温梯法生长掺四价铬硅酸镁晶体的方法, 垂直温梯法生长掺四价铬硅酸镁晶体的方法. ZL200310108486.2. 2005-12-28.
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