| 数字全息两次曝光位相差放大装置; 数字全息两次曝光位相差放大装置 | |
| 高鸿奕 ; 陈建文 ; 何红 ; 李儒新 ; 徐至展 | |
| 2004-11-10 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200320107829.9 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种数字全息两次曝光位相差放大装置，包括激光光源，其特征在于沿激光光源发出的激光束的前进方向依次有扩束望远镜、第一半透半反镜，该第一半透半反镜的透射光方向经第一全反凹面镜到第二半透半反镜，该第一半透半反镜的反射光方向经第二全反凹面镜到达第二半透半反镜，其后再依次是透镜、探测器和计算机，所述的探测器是一台电荷耦合器CCD，位于透镜的焦距上。将待测样品放在第一半透半反镜和第一全反凹面镜之间的透射光路中，经两次曝光并利用计算机的重构即可获得位相差放大。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2003-11-07 |
| 收录类别 | 专利 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200320107829.9 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/8534]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_强场激光物理国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高鸿奕,陈建文,何红,等. 数字全息两次曝光位相差放大装置, 数字全息两次曝光位相差放大装置. ZL200320107829.9. 2004-11-10. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论