大模场双包层单模光纤; 大模场双包层单模光纤 | |
楼祺洪 ; 李占波 ; 周军 | |
2007-12-19 | |
专利国别 | 中国 |
专利号 | ZL200620048887.2 |
专利类型 | 实用新型 |
权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
中文摘要 | 大模场双包层单模光纤,纤芯介质折射率为n1,内包层由高折射率介质n1和低折射率介质n2组成,两种介质具有相同的角度且沿圆周周期性分布。外包层介质折射率为n3(n3<n2<n1)。一种结构内包层上有均匀分布的空气小孔,另一种结构内包层上只有低折射率区分布有空气小孔。本实用新型具有多孔光纤的泄漏模结构,并能使高阶模具有更大的泄漏损耗,从而保证光纤在大纤芯直径 |
公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
申请日期 | 2006-12-13 |
收录类别 | 专利 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN200620048887.2 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/9620] |
专题 | 上海光学精密机械研究所_先进激光技术与应用系统实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 楼祺洪,李占波,周军. 大模场双包层单模光纤, 大模场双包层单模光纤. ZL200620048887.2. 2007-12-19. |
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