| 高密度矩形深刻蚀石英透射光栅; 高密度矩形深刻蚀石英透射光栅 | |
| 周常河 ; 张妍妍 | |
| 2006-02-22 | |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | ZL200410052908.3 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 一种用于高衍射效率透射800纳米波段半导体激光或以800纳米为中心波长的飞秒脉冲激光的高密度矩形深刻蚀石英透射光栅，其特征在于该光栅的线密度为1220～1270线/毫米，光栅的深度为1.49～1.55微米，光栅的占空比为1/2。本发明可以同时使TE、TM偏振方向的+1级布拉格透射衍射效率实现高于90％的结果，本发明矩形刻蚀石英透射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子光刻工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。 |
| 公开日期 | 2011-07-14 ; 2011-07-15 |
| 申请日期 | 2004-07-16 |
| 收录类别 | 专利 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN200410052908.3 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/8768]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周常河,张妍妍. 高密度矩形深刻蚀石英透射光栅, 高密度矩形深刻蚀石英透射光栅. ZL200410052908.3. 2006-02-22. |
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