| 硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究 | |
| 陈飞; 张晓丹; 赵颖; 魏长春; 孙建 | |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 2008 | |
| 卷号 | 第57卷页码:3276-3280 |
| 关键词 | 甚高频等离子增强化学气相沉积 等离子体 发光基团 空间分布 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/1891416 |
| 专题 | 南开大学 |
| 作者单位 | 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 天津 （300071） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈飞,张晓丹,赵颖,等. 硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究[J]. 物理学报,2008,第57卷:3276-3280. |
| APA | 陈飞,张晓丹,赵颖,魏长春,&孙建.(2008).硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究.物理学报,第57卷,3276-3280. |
| MLA | 陈飞,et al."硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究".物理学报 第57卷(2008):3276-3280. |
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