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利用MOCVD梯度掺杂技术生长ZnO:B薄膜及应用
陈新亮; 耿新华; 王斐; 闫聪博; 张德坤; 孙建; 魏长春; 张建军; 张晓丹; 赵颖
权利人南开大学
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申请日期2011
内容类型专利
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/1855900
专题南开大学
作者单位00071天津市南开区卫津路94号
推荐引用方式
GB/T 7714
陈新亮,耿新华,王斐,等. 利用MOCVD梯度掺杂技术生长ZnO:B薄膜及应用.
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