| 基于转移矩阵法的n-Si/n-FeO光催化性能研究 | |
| 陈磊; 冯德强; 刘孟寅; 王卫超 | |
| 刊名 | 人工晶体学报
 |
| 2016 | |
| 卷号 | 第45卷页码:2758-2764 |
| 关键词 | 光催化 转移矩阵法 透射系数 n-Si/n-Fe2O3异质结 水氧化还原反应 |
| ISSN号 | 1000-985X |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/1852801 |
| 专题 | 南开大学 |
| 作者单位 | 南开大学电子信息与光学工程学院 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈磊,冯德强,刘孟寅,等. 基于转移矩阵法的n-Si/n-FeO光催化性能研究[J]. 人工晶体学报,2016,第45卷:2758-2764. |
| APA | 陈磊,冯德强,刘孟寅,&王卫超.(2016).基于转移矩阵法的n-Si/n-FeO光催化性能研究.人工晶体学报,第45卷,2758-2764. |
| MLA | 陈磊,et al."基于转移矩阵法的n-Si/n-FeO光催化性能研究".人工晶体学报 第45卷(2016):2758-2764. |
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