具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置

	具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置
	张斌; 张俊彦; 高凯雄; 强力; 王健
	2018-06-29
著作权人	中国科学院兰州化学物理研究所
专利号	ZL201510708221.9
国家	中国
文献子类	发明专利
语种	中文
状态	已授权
内容类型	专利
源URL	[http://210.77.64.217/handle/362003/24530]
专题	兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
作者单位	中国科学院兰州化学物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	张斌,张俊彦,高凯雄,等. 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置. ZL201510708221.9. 2018-06-29.