题名Ⅰ-Ⅲ(Ⅱ/Ⅳ)-Ⅵ族化合物薄膜太阳电池的制备工艺和性能研究
作者崔艳峰
答辩日期2011-06-03
文献子类博士
授予单位中国科学院研究生院
导师褚君浩
关键词薄膜太阳能电池 铜铟镓硒薄膜 铜铟硫薄膜 铜锌锡硫薄膜
学位专业微电子学与固体电子学
英文摘要最近,刚刚发生的日本福岛核电站的核泄漏事故再一次给人类敲响了警钟,让人们认识到开发可再生清洁能源已经刻不容缓。太阳能电池的应用可同时解决能源与污染两个问题,是未来太阳能利用的主要方向,已经越来越引起人们的重视。其中,Ⅰ-Ⅲ(Ⅱ/Ⅳ)-Ⅵ族化合物薄膜太阳能电池因其高效率、低成本和对环境友好的特点而被广泛关注,成为最有发展前景的薄膜太阳能电池。本论文主要研究了Cu(In,Ga)Se2、CuInS2、Cu2ZnSnS4和Cu2ZnSn(S,Se)4几种薄膜太阳能电池的吸收层和电池器件的制备工艺及性能,分别采用磁控溅射和电化学沉积的方法制备了电池的吸收层材料,并对其晶体结构、形貌和光学性质等进行了研究,在此基础上制备了Cu(In,Ga)Se2和CuInS2电池器件,得到了3%和3.4%的转换效率。论文分为六章,具体内容如下:在第一章中,我们首先介绍了太阳能电池的原理、历史和种类,然后分别介绍了Cu(In,Ga)Se2、CuInS2、Cu2ZnSnS4和Cu2ZnSn(S,Se)4几种薄膜太阳能电池的发展以及各吸收层材料的制备方法。第二章中我们主要研究了Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池。首先,我们对缓冲层CdS薄膜进行了详细的研究。分别采用溅射法、传统化学水浴法和优化的化学水浴法制备了CdS薄膜,比较了这几种生长方法得到的CdS薄膜的性质差异,发现优化的化学水浴法生长的CdS薄膜性质最好。可见光范围内的透过率达到80%,禁带宽度为2.4eV,薄膜致密,表面光滑平整,适合做电池的缓冲层。我们通过直流磁控溅射制备Cu-In-Ga预制膜,然后进行硒化制备了吸收层Cu(In,Ga)Se2薄膜,探讨了溅射功率和衬底对薄膜的影响,并对薄膜的晶体结构、形貌和光学性质进行了分析,发现50W的溅射功率和Mo衬底上生长的Cu(In,Ga)Se2薄膜质量好一些,薄膜致密,有明显的柱状晶粒,晶粒尺寸较大,适合做电池的吸收层。在此基础上制备了结构为玻璃/Mo/ Cu(In,Ga)Se2/CdS/i-ZnO/ZnO:Al的电池器件,得到了3%的光电转换效率。第三章我们对CuInS2薄膜太阳能电池进行了研究。主要采用了低成本的电化学方法来制备吸收层材料,为大面积产业化应用奠定了基础。我们采用一步共沉积制备Cu-In-S预制膜后硫化的方法制备出了CuInS2薄膜,并探讨了电解液中Cu2+浓度对薄膜的影响。发现当Cu2+浓度为7.8mM时,薄膜为单一的、具有理想化学计量比的、禁带宽度为1.5eV的CuInS2薄膜。在此基础上制备了结构为玻璃/ITO/CuInS2/CdS/i-ZnO/ZnO:Al的薄膜电池,电池转换效率达到3.4%。此外,采用电化学逐层沉积Cu-In和In-Cu预制膜后硫化的方法制备了CuInS2薄膜,探讨了沉积顺序对薄膜的影响,发现沉积顺序的影响不如Cu、In层的厚度和硫化温度的影响大。第四章中我们主要研究了Cu2ZnSnS4薄膜。采用电化学一步共沉积后硫化退火的方法制备出了Cu2ZnSnS4薄膜,对薄膜的晶体结构、表面形貌、能谱以及光学性质进行了表征。主要研究了硫化退火温度和S2O32-浓度这两个因素对薄膜的影响。发现Cu2ZnSnS4薄膜的成相十分依赖于退火温度。只有在退火温度大于450℃时,才会形成Cu2ZnSnS4相,且退火温度越高,薄膜质量越好。S2O32-浓度的改变对薄膜的影响体现在杂相CuxS的出现上。研究发现随着S2O32-浓度的增大,薄膜容易出现CuxS杂相。最终,我们制备得到了单一相的、具有理想化学计量比的、禁带宽度为1.5eV的Cu2ZnSnS4薄膜。这种薄膜在后面的工作中将被用作太阳能电池的吸收层。第五章我们主要研究了目前比较新的Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜材料。采用电化学沉积Cu-Zn-Sn-S前驱体薄膜和后期的硫化与硒化处理的工艺路线,将Se元素引入到了Cu2ZnSnS4化合物中,制备出了多个不同成分比例的Cu2ZnSn(S,Se)4半导体薄膜材料。研究发现,通过控制后期的硫化和硒化温度,可以比较容易地控制Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜中S和Se的含量。随着硫化温度的升高,薄膜中S的含量随之增加,禁带宽度值也随之增大。我们对禁带宽度与S含量之间的关系进行了拟合,发现能够很好的满足禁带宽度公式,并得到了弯曲系数b=0.38。在第六章中,我们对论文内容进行了总结和展望。
学科主题红外基础研究
公开日期2012-09-11
内容类型学位论文
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/5300]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
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GB/T 7714
崔艳峰. Ⅰ-Ⅲ(Ⅱ/Ⅳ)-Ⅵ族化合物薄膜太阳电池的制备工艺和性能研究[D]. 中国科学院研究生院. 2011.
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