碲镉汞红外焦平面列阵器件钝化界面的植氢优化方法
1 叶振华 2 黄建 3杨建荣4 尹文婷5 邢雯 6 林春 7 陈兴国 8 胡晓宁9 丁瑞军 10 何力
2011
著作权人上海技术物理研究所
专利号200910198961.7
国家中国
文献子类发明
公开日期2011-12-15
申请日期2009
语种中文
状态公开
内容类型专利
源URL[http://202.127.1.142/handle/181331/3607]  
专题上海技术物理研究所_上海技物所
推荐引用方式
GB/T 7714
1 叶振华 2 黄建 3杨建荣4 尹文婷5 邢雯 6 林春 7 陈兴国 8 胡晓宁9 丁瑞军 10 何力. 碲镉汞红外焦平面列阵器件钝化界面的植氢优化方法. 200910198961.7. 2011-01-01.
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