高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响
高俊华; 胡令祥; 施思齐; 曹鸿涛; 梁凌燕; 张洪亮; 诸葛飞
刊名材料科学与工程学报
2018
卷号36期号:04页码:564-567
关键词忆阻器 高温处理 Zno 无电形成
产权排序上海大学材料科学与工程学院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所;
英文摘要本文研究了高温处理对ZnO薄膜及其忆阻效应的影响,发现利用经800℃高温处理后的ZnO薄膜制备的Cu/ZnO/Pt器件依然保持忆阻性能,并观察到无电形成过程的忆阻效应。研究表明,无电形成过程的原因在于高温处理后的ZnO薄膜出现了纳米级通道,使得在沉积顶电极Cu的过程中,形成天然的导电通道,使器件呈现低阻态。
公开日期2018-12-04
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16525]  
专题2018专题
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GB/T 7714
高俊华,胡令祥,施思齐,等. 高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响[J]. 材料科学与工程学报,2018,36(04):564-567.
APA 高俊华.,胡令祥.,施思齐.,曹鸿涛.,梁凌燕.,...&诸葛飞.(2018).高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响.材料科学与工程学报,36(04),564-567.
MLA 高俊华,et al."高温处理对ZnO薄膜及其忆阻性能的影响".材料科学与工程学报 36.04(2018):564-567.
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