一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法 | |
莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈海俊; 裴学良; 杨建行 | |
2016-05-25 | |
著作权人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
专利号 | CN105601936A |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明 |
英文摘要 | 本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法,该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗,再用氧化性酸对反应容器进行清洗,最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物,在保养反应设备的同时,减少了残留物对后续反应进程的影响,提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。 |
公开日期 | 2016-05-25 |
申请日期 | 2016-01-12 |
状态 | 公开 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16138] ![]() |
专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 莫高明,苗玉龙,钟希强,等. 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法. CN105601936A. 2016-05-25. |
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