一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法; 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈海俊; 裴学良; 杨建行
2016-05-25
著作权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利号CN105601936A
国家中国
文献子类发明
英文摘要本发明提供了一种清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应残留物的方法,该方法首先用可溶聚碳硅烷(PCS)的有机溶剂对反应容器进行清洗,再用氧化性酸对反应容器进行清洗,最后用去离子水或蒸馏水清洗反应容器后烘干。通过上述方法可快速、彻底清除聚二甲基硅烷(PDMS)裂解反应后的残留物,在保养反应设备的同时,减少了残留物对后续反应进程的影响,提高了反应产物性能的稳定性和可靠性。
公开日期2016-05-25
申请日期2016-01-12
状态公开
内容类型专利
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16138]  
专题宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
莫高明,苗玉龙,钟希强,等. 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法, 一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法. CN105601936A. 2016-05-25.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace