一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法; 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法; 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法; 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法
宋伟杰; 张景; 张贤鹏; 鲁越晖; 艾玲; 李啸
2017-09-26
著作权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利号CN107201034A
国家中国
文献子类发明
英文摘要本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜,所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2<-sub>纳米粒子的有机无机复合层,通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO2<-sub>纳米粒子,在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2<-sub>纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法,包括:依次在刚性基材上制备空心SiO2<-sub>纳米粒子层和聚合物薄膜层,固化后剥离刚性基材,得到单面镶嵌空心SiO2<-sub>纳米粒子的聚合物复合薄膜,在单面镶嵌空心SiO2<-sub>纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO2<-sub>纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能,制备操作简单。
公开日期2017-09-26
申请日期2017-04-24
状态公开
内容类型专利
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/15786]  
专题宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
宋伟杰,张景,张贤鹏,等. 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法, 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法, 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法, 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法. CN107201034A. 2017-09-26.
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