变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验

doi:B1D70FE1BB8608FA2C227E2789046C80

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	变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验
	汤伟; 王锐; 王挺峰; 郭劲
刊名	红外与激光工程
	2017-04-25
页码	60-65
关键词	激光干扰变焦光学系统半导体激光器光饱和串扰
DOI	B1D70FE1BB8608FA2C227E2789046C80
英文摘要	开展了变焦彩色CCD成像系统的激光外场干扰实验,测得了半导体激光(750 nm)对变焦距(17~187 mm)彩色CCD相机的干扰效果;同时利用典型的激光干扰CCD模型,完成了对实验结果的验证与理论分析。理论与实验结果表明:750 nm激光对彩色CCD成像系统的干扰效果明显,CCD靶面出现了明显的光饱和和串扰现象;在激光辐照条件相同情况下,光学系统焦距f越大,被光阑截断的激光就越少,到靶的激光功率密度就越高,CCD靶面的光饱和面积就越大;光学系统焦距f为17 mm时,CCD靶面的光饱和面积为0.33 mm×0.29 mm,而当光学系统焦距f增大至120 mm时,CCD靶面的光饱和面积为1.8 mm×1.2 mm。仿真结果与实验结果基本一致,证明了理论模型的正确性。研究结果将对CCD器件的实际应用具有一定的指导意义。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58380]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	汤伟,王锐,王挺峰,等. 变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验[J]. 红外与激光工程,2017:60-65.
APA	汤伟,王锐,王挺峰,&郭劲.(2017).变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验.红外与激光工程,60-65.
MLA	汤伟,et al."变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验".红外与激光工程 (2017):60-65.