离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜

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	离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜
	才玺坤; 梅林; 武潇野; 贺健康; 时光; 张立超
刊名	中国光学
	2016-12-15
期号	6 页码:649-655
关键词	离子束溅射应力光学特性膜厚均匀性
英文摘要	采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10~(-4)和3.0×10~(-4)的低损耗AlF_3和GdF_3薄膜,对应的折射率分别为1.43和1.67,193 nm减反膜系的透过率为99.6%,剩余反射几乎为零,而高反膜系的反射率为99.2%,透过率为0.1%。应力测量结果表明,AlF_3薄膜表现为张应力而GdF_3薄膜具有压应力,与沉积条件相关的低生长应力是AlF_3和GdF_3薄膜残余应力较小的主要原因,采用这两种材料制备的减反及高反膜系应力均低于50 MPa。针对平面和曲率半径为240 mm的凸面元件,通过设计修正挡板,250 mm口径膜厚均匀性均优于97%。为亚纳米精度的平面元件镀制193 nm减反膜系,镀膜后RMS由0.177 nm变为0.219 nm。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58043]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	才玺坤,梅林,武潇野,等. 离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜[J]. 中国光学,2016(6):649-655.
APA	才玺坤,梅林,武潇野,贺健康,时光,&张立超.(2016).离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜.中国光学(6),649-655.
MLA	才玺坤,et al."离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜".中国光学 .6(2016):649-655.