离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性

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	离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性
	张立超; 贺健康; 梅林; 武潇野; 时光; 才玺坤
刊名	中国光学
	2016-06-15
期号	3 页码:356-363
关键词	离子束溅射光学薄膜沉积速率二维拟合膜厚均匀性
英文摘要	本文采用离子束溅射方法制备GdF_3薄膜,并研究其沉积速率分布特征。首先,采用膜厚仪测量得出GdF_3薄膜在行星盘平面的二维沉积速率分布图,通过拟合模型得到二维沉积速率分布公式。其次,分析了束流束压及靶材角度对沉积速率分布特征的影响。最后,以二维沉积速率分布公式为基础,通过计算机编程设计均匀性挡板,并进行膜厚均匀性实验验证。结果表明,沉积速率在水平方向上满足ECS函数分布,在竖直方向上满足标准Gauss分布,拟合公式残差为2.05×10~(-6)。改变离子源的束流和束压,沉积速率分布特征保持不变。而随着靶材角度的增大,Gauss分布的半峰宽值ω逐渐增大,峰值位置x_c逐渐增大,在θ=292°时,GdF_3薄膜的沉积速率最大。通过挡板修调实验,可将270 mm口径平面元件的膜厚均匀性调整为97.9%。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/57947]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	张立超,贺健康,梅林,等. 离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性[J]. 中国光学,2016(3):356-363.
APA	张立超,贺健康,梅林,武潇野,时光,&才玺坤.(2016).离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性.中国光学(3),356-363.
MLA	张立超,et al."离子束溅射制备GdF_3光学薄膜沉积速率分布特性".中国光学 .3(2016):356-363.