一种密封微孔敞口的工艺

	一种密封微孔敞口的工艺
	王德强; 赵越; 陆文强; 崔洪亮; 杜春雷
	2017-09-29
著作权人	中国科学院重庆绿色智能技术研究院
专利号	201510687617X
国家	中国
文献子类	发明专利
英文摘要	本发明公开了一种密封微孔敞口的工艺，利用Au催化辅助化学气相沉积生长技术，在带有微米孔的Si3N4衬底上制备了ZnO纳米结构，实现表面封孔的目的。封孔过程从孔壁向孔的中心平面沉积，通过沉积的温度和时间来控制微孔表面的沉积速率,最终形成氧化锌薄膜。所述氧化锌薄膜包括由交叉生长的氧化锌纳米线、纳米片或纳米柱构成的氧化锌纳米线层，形成的纳米材料结构确定、有序、可实现高的比表面积。经封孔处理后的Si3N4可作为承载、透波和热防护材料，可用于半导体纳米材料技术领域，多形态的ZnO纳米结构易刻蚀而使后继工艺加工更方便。
分类号	C04b41/85(2006.01)i
申请日期	2015-10-21
语种	中文
状态	已授权
内容类型	专利
源URL	[http://119.78.100.138/handle/2HOD01W0/5360]
专题	精准医疗单分子诊断技术研究中心微纳制造与系统集成研究中心太赫兹技术研究中心
作者单位	(1)中国科学院重庆绿色智能技术研究院
推荐引用方式 GB/T 7714	王德强,赵越,陆文强,等. 一种密封微孔敞口的工艺. 201510687617X. 2017-09-29.