一种稳定掺杂降低石墨烯薄膜方块电阻的方法

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	一种稳定掺杂降低石墨烯薄膜方块电阻的方法
	黄德萍; 姜浩; 朱鹏; 李占成; 张永娜; 高翾; 史浩飞
	2018-02-16
著作权人	(1)中国科学院重庆绿色智能技术研究院 ; (2)重庆墨希科技有限公司
专利号	2014108057756
国家	中国
文献子类	发明专利
英文摘要	本发明涉及一种稳定掺杂降低石墨烯薄膜方块电阻的方法，其特征在于，包括以下步骤：将转移在基底上的石墨烯薄膜与含有稳定掺杂剂成分的试剂进行相互接触，接触时间为1～240min，实现对石墨烯薄膜进行稳定掺杂，降低石墨烯薄膜方块电阻。通过本发明对石墨烯薄膜进行处理之后，在基本不影响石墨烯薄膜透光率的情况下，不仅可以降低其方阻，更为重要的是可以使石墨烯薄膜的方阻长期保持稳定，且在80～120摄氏度高温烘烤60～240min及长期放置下，方阻变化不大，从而方便后续进行图案化等处理，促进石墨烯薄膜在显示技术等对透明导电薄膜的方阻和透光率要求较高的工业领域进行广泛应用。
分类号	H01c17/075(2006.01)i
申请日期	2014-12-22
语种	中文
状态	已授权
内容类型	专利
源URL	[http://119.78.100.138/handle/2HOD01W0/5328]
专题	微纳制造与系统集成研究中心
作者单位	(1)中国科学院重庆绿色智能技术研究院; (2)重庆墨希科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	黄德萍,姜浩,朱鹏,等. 一种稳定掺杂降低石墨烯薄膜方块电阻的方法. 2014108057756. 2018-02-16.