实用微机控制XG60-1型MOCVD装置 | |
侯洵; 高鸿楷; 张济康; 叶亚仙; 李秀如; 云峰; 刘英; 张增颜 | |
1990 | |
文献子类 | 省部科学技术进步奖 |
奖励等级 | 院级三等奖 |
英文摘要 | MOCVD装置是当今国际上半导体材料研究和生产的先进设备,可用来制备各类超高速器件、光电器件、集成电路和激光器等所需的材料。该装置包括气体源、管路系统、反应器、尾气处理系统及微机自动控制系统,是半导体材料生长的专用设备,在计算机自动控制下已生长出GaAs,AlGaAs单层外延片和AlGaAs-GaAs-AlGaAs三层外延片。其整个系统密封性好,本底杂质浓度低,主要性能指标处于国内领先地位,达到了80年代国际同类装置的水平。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 成果 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/18855] |
专题 | 西安光学精密机械研究所_中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 侯洵,高鸿楷,张济康,等. 实用微机控制XG60-1型MOCVD装置. . 1990. |
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