抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化

	抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化
	李凤斌 ; 董绍俊
刊名	化学学报
	1990
卷号	48 期号:7 页码:653-659
ISSN号	0567-7351
通讯作者	董绍俊
中文摘要	本文详细研究了普鲁士蓝(PB)薄膜本身电荷传输过程的动力学及PB薄膜催化抗坏血酸(AH_2)电氧化的动力学,用电位阶跃计时电流法和计时电量法,恒电流计时电位法测得PB膜中电荷传输表观扩散系数D_(ct)平均为2.62×10~(-10)cm~2·s~(-1);用RDE法测得AH_2在PB薄膜上催化氧化的速率常数为1.23×10~8cm~3·mol~(-1)·s~(-1),催化反应对AH_2为一级,只发生在PB薄膜与溶液的界面上,整个催化过程受到溶液中的传质、膜内部的电荷传输及膜与溶液界面上交叉反应三种因素单独或联合控制,实际出现四种动力学情况。
收录类别	CSCD收录国内期刊论文
语种	中文
公开日期	2011-03-03 ; 2011-06-10
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40309]
专题	长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	李凤斌,董绍俊. 抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化[J]. 化学学报,1990,48(7):653-659.
APA	李凤斌,&董绍俊.(1990).抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化.化学学报,48(7),653-659.
MLA	李凤斌,et al."抗坏血酸在普鲁士蓝薄膜修饰电极上的电催化氧化".化学学报 48.7(1990):653-659.