高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定

	高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定
	袁甫 ; 綦文娣 ; 关秋荻 ; 陈新海
刊名	光谱实验室
	1991
页码	33-37
关键词	测定下限杂质元素纳米高纯金属稀土元素金属钕乙醇浓度样品分析谱线强度相对标准偏差
ISSN号	1004-8138
中文摘要	本文提出了用ICP-AES直接同时测定高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的新方法。描述了在钕样品溶液中加入乙醇后对测定灵敏度的影响,乙醉量的影响以及ICP的几个主要工作参数的选择等。当样品溶液中稀土元素的总浓度为5毫克/毫升,乙醇浓度为70%(V/V)时,测定下限分别为镧0.0020%,铈0.0030%,镨0.010%,钐0.0050%和钇0.0010%其相对标准偏差为2.9-5.7%。
收录类别	CSCD收录国内期刊论文
语种	中文
公开日期	2011-03-03 ; 2011-06-10
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/39359]
专题	长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	袁甫,綦文娣,关秋荻,等. 高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定[J]. 光谱实验室,1991:33-37.
APA	袁甫,綦文娣,关秋荻,&陈新海.(1991).高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定.光谱实验室,33-37.
MLA	袁甫,et al."高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定".光谱实验室 (1991):33-37.