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丝裂霉素联合地塞米松对LASEK术后haze形成的抑制作用的研究
王敏; 燕振国; 徐朝晖; 张丽
刊名眼外伤职业眼病杂志(附眼科手术)
2009-02-25
期号2页码:84-87
关键词丝裂霉素C 地塞米松 准分子激光上皮下角膜磨镶术 角膜上皮下雾状浑浊
中文摘要目的探讨准分子激光上皮下角膜磨镶术(LASEK)中应用0.02%丝裂霉素C(MMC)及术后短期(1周)应用地塞米松(DM),对术后角膜上皮下雾状浑浊(haze)形成的抑制作用。方法LASEK208例按用药不同分为MMC组101例(199眼)和MMC联合DM组107例(200眼)。以统计学方法分析两组haze发生率。结果MMC组中10眼(5.03%)出现Ⅱ级haze,未出现Ⅱ级以上haze;MMC联合DM组未出现Ⅱ级及以上haze。同一性别中两组Ⅱ级haze发生率差异均有统计学意义(P<0.05)。结论在LASEK术中应用0.02%MMC联合术后短期内(1周)应用地塞米松,对术后haze的形成具...
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/173123]  
专题第二临床医学院_期刊论文
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GB/T 7714
王敏,燕振国,徐朝晖,等. 丝裂霉素联合地塞米松对LASEK术后haze形成的抑制作用的研究[J]. 眼外伤职业眼病杂志(附眼科手术),2009(2):84-87.
APA 王敏,燕振国,徐朝晖,&张丽.(2009).丝裂霉素联合地塞米松对LASEK术后haze形成的抑制作用的研究.眼外伤职业眼病杂志(附眼科手术)(2),84-87.
MLA 王敏,et al."丝裂霉素联合地塞米松对LASEK术后haze形成的抑制作用的研究".眼外伤职业眼病杂志(附眼科手术) .2(2009):84-87.
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