双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析

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	双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析
	徐妍; 孙宝利; 马超; 刘丹; 蔡梦玲; 吴学民
刊名	分析化学
	2011-09-15
期号	09 页码:1437-1441
关键词	X射线光电子能谱莠去津双梳型共聚物吸附
英文摘要	采用X射线光电子能谱(XPS)研究了双梳型共聚物吸附于莠去津颗粒样品表面的电子状态,计算了吸附厚度。结果表明:吸附后,莠去津颗粒界面的N1s和Cl2p谱峰强度明显减弱,Cl2s几乎消失,而C1s和O1s谱峰强度则明显增强,这主要是双梳型共聚物中C和O的贡献,且吸附后能在莠去津颗粒界面形成良好的吸附保护膜,其厚度约为15nm。本研究拓宽了X射线光电子能谱仪的应用领域,且对莠去津悬浮剂的稳定机理研究有实际意义。
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语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://111.203.20.206/handle/2HMLN22E/18656]
专题	农业环境与可持续发展研究所_农业环境分析测试中心
作者单位	中国农业大学应用化学系;农业部农药化学与应用重点开放实验室;中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	徐妍,孙宝利,马超,等. 双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析[J]. 分析化学,2011(09):1437-1441.
APA	徐妍,孙宝利,马超,刘丹,蔡梦玲,&吴学民.(2011).双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析.分析化学(09),1437-1441.
MLA	徐妍,et al."双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析".分析化学 .09(2011):1437-1441.