超分散剂在莠去津颗粒表面吸附的XPS和SEM分析

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	超分散剂在莠去津颗粒表面吸附的XPS和SEM分析
	徐妍; 孙宝利; 马超; 张平; 蔡梦玲; 吴学民
刊名	光谱学与光谱分析
	2011-09-15
期号	09 页码:2569-2573
关键词	X射线光电子能谱扫描电子显微镜莠去津超分散剂吸附
英文摘要	用X射线光电子能谱(X-rayphotoelectronspectroscopy,XPS)研究了聚羧酸型梳状共聚物超分散剂吸附于莠去津颗粒样品表面的电子状态,计算了吸附厚度。结果表明,吸附分散剂后,莠去津颗粒界面的N(1s)和Cl(2p)谱峰强度明显减弱,Cl(2s)几乎消失,C(1s),O(1s)和Na(1s)谱峰强度则明显增强,这主要是分散剂中C,O和Na的贡献,且吸附分散剂后能在莠去津颗粒界面形成良好的吸附保护膜,其厚度约为24nm。用扫描电子显微镜(scanningelectronmicroscope,SEM)研究了样品表面形貌,研究发现吸附分散剂后莠去津颗粒变小、分布有序,...
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语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://111.203.20.206/handle/2HMLN22E/18655]
专题	农业环境与可持续发展研究所_农业环境分析测试中心
作者单位	中国农业大学应用化学系农业部农药化学与应用重点开放实验室;中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	徐妍,孙宝利,马超,等. 超分散剂在莠去津颗粒表面吸附的XPS和SEM分析[J]. 光谱学与光谱分析,2011(09):2569-2573.
APA	徐妍,孙宝利,马超,张平,蔡梦玲,&吴学民.(2011).超分散剂在莠去津颗粒表面吸附的XPS和SEM分析.光谱学与光谱分析(09),2569-2573.
MLA	徐妍,et al."超分散剂在莠去津颗粒表面吸附的XPS和SEM分析".光谱学与光谱分析 .09(2011):2569-2573.