低能高电荷态Ar~(q+)(q=12;13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文)

	低能高电荷态Ar~(q+)(q=12;13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文)
	徐进章; 杜娟; 徐徐; 陈熙萌; 胡碧涛; 邵剑雄; 崔莹; 杨治虎; 张红强; 张毅
刊名	原子与分子物理学报
	2007-08-25
期号	4 页码:858-862
关键词	L壳层X射线钼氩离子低能高电荷态
中文摘要	本文报导了低能高电荷态Arq+(q=12,13)离子诱发的钼L壳层X射线强度随入射粒子能量的变化趋势,研究表明当入射粒子能量高于220 keV时,钼L壳层X射线强度有明显增加的的趋势.同时,我们提出了一个简单的模型去估计这种趋势随入射能量的变化.模型计算的结果与实验值符合的比较好.
语种	英语
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/130953]
专题	核科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	徐进章,杜娟,徐徐,等. 低能高电荷态Ar~(q+)(q=12;13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文)[J]. 原子与分子物理学报,2007(4):858-862.
APA	徐进章.,杜娟.,徐徐.,陈熙萌.,胡碧涛.,...&王博宇.(2007).低能高电荷态Ar~(q+)(q=12;13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文).原子与分子物理学报(4),858-862.
MLA	徐进章,et al."低能高电荷态Ar~(q+)(q=12;13)离子诱发钼L壳层X射线强度的研究(英文)".原子与分子物理学报 .4(2007):858-862.