0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究 | |
刘兆远; 马树勋; 董发运; 刘绍湘; 蔡晓红; 柳纪虎; 冯嘉祯; 张之津 | |
刊名 | 原子与分子物理学报
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1988-12-30 | |
期号 | 4页码:886-896 |
关键词 | X射线:9533 产生截面:2796 强度比:1001 质子轰击:487 计算值:154 薄靶:138 实验数据:46 金硅面垒探测器:39 理论模型:36 实验结果:28 |
中文摘要 | 以(?).4—3.0Mev质子轰击Ta,Au和Bi薄靶,测得其L—X射线产生截面.求出了比值L_α/L_(?),L_α/L_β和L_α/L(?).将得到的截面及L-X射线强度比与ECPSSR理论计算值作了比较. |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/130389] ![]() |
专题 | 核科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘兆远,马树勋,董发运,等. 0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究[J]. 原子与分子物理学报,1988(4):886-896. |
APA | 刘兆远.,马树勋.,董发运.,刘绍湘.,蔡晓红.,...&张之津.(1988).0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究.原子与分子物理学报(4),886-896. |
MLA | 刘兆远,et al."0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究".原子与分子物理学报 .4(1988):886-896. |
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