0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究

	0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究
	刘兆远; 马树勋; 董发运; 刘绍湘; 蔡晓红; 柳纪虎; 冯嘉祯; 张之津
刊名	原子与分子物理学报
	1988-12-30
期号	4 页码:886-896
关键词	X射线:9533 产生截面:2796 强度比:1001 质子轰击:487 计算值:154 薄靶:138 实验数据:46 金硅面垒探测器:39 理论模型:36 实验结果:28
中文摘要	以(?).4—3.0Mev质子轰击Ta,Au和Bi薄靶,测得其L—X射线产生截面.求出了比值L_α/L_(?),L_α/L_β和L_α/L(?).将得到的截面及L-X射线强度比与ECPSSR理论计算值作了比较.
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/130389]
专题	核科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	刘兆远,马树勋,董发运,等. 0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究[J]. 原子与分子物理学报,1988(4):886-896.
APA	刘兆远.,马树勋.,董发运.,刘绍湘.,蔡晓红.,...&张之津.(1988).0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究.原子与分子物理学报(4),886-896.
MLA	刘兆远,et al."0.4—3.0Mev质子引起的Ta;Au和Bi的L壳X射线研究".原子与分子物理学报 .4(1988):886-896.