中频磁控溅射法制备BCN薄膜

	中频磁控溅射法制备BCN薄膜
	陈友明; 张广安; 王鹏; 杨生荣; 张俊彦
	2006-08-01
会议名称	第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
关键词	磁控溅射 BCN薄膜红外光谱 X射线光电子能谱
页码	4
中文摘要	采用中频磁控溅射技术,使用N2和Ar混合气体作为反应气体,分别溅射硼靶和石墨靶, 在单晶硅衬底上制备了BCN薄膜。利用傅立叶变换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的微观结构和化学组成进行了分析,结果表明,N元素在薄膜中主要是以B-N和C=N键合形式存在; 另外,分析表明薄膜中还存在B-C键,这说明制备的BCN薄膜并非是石墨和h-BN简单的物理混合,而是B、C、N三种元素形成的具有一定原子比的化合物。
会议录	第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛论文集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://202.201.7.4/handle/262010/108024]
专题	物理科学与技术学院_会议论文
推荐引用方式 GB/T 7714	陈友明,张广安,王鹏,等. 中频磁控溅射法制备BCN薄膜[C]. 见:第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛.