稀土铽(Tb)掺杂纳米晶GaN薄膜的室温可见发光 | |
王涛; 潘孝军; 张振兴; 李晖; 谢二庆 | |
2007-08-01 | |
会议名称 | 第11届全国发光学学术会议 |
关键词 | GaN薄膜 Tb 温度猝灭 衬底温度 溅射制备 溅射沉积 发光材料 光致发光 半导体材料 高纯镓 |
页码 | 1 |
中文摘要 | 稀土掺杂半导体发光是稀土4f 内层电子跃迁发光,亮度高、寿命长、效率高,受外界环境因素影响小。发光的光谱范围从紫外、可见到近红外,在光通信、平面显示、照明、光存储等领域具有广泛的应用。从上个世纪60年代起,人们就尝试在半导体材料中掺入各种稀土离子,以期获得不同波长的发光材料,但结果是令人沮丧的,所制备的样品发光效率低、温度猝灭现象严重,多年来在此领域一直没有取得重大突破。理论研究表明,半导体材料的带隙越宽,温度猝灭效应越低。晶体 GaN 的带隙宽度为3.4 eV,是一种直接宽带隙半导体材料,这非常有利于稀土离子的掺杂发光。最近,稀土掺杂 GaN 外延薄膜的成功制备,引起了人们的极大关注。结果表... |
会议录 | 第11届全国发光学学术会议论文摘要集 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 会议论文 |
源URL | [http://202.201.7.4/handle/262010/107972] |
专题 | 物理科学与技术学院_会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王涛,潘孝军,张振兴,等. 稀土铽(Tb)掺杂纳米晶GaN薄膜的室温可见发光[C]. 见:第11届全国发光学学术会议. |
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