Optical properties of a-GaN film deposited by DC magnetron sputtering

	Optical properties of a-GaN film deposited by DC magnetron sputtering
	Pan, XJ; Zhang, ZX; Jia, L; Li, H; Xie, EQ
刊名	JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS/无机材料学报
	2007-07
卷号	22 期号:4 页码:725-728
关键词	amorphous GaN DC sputtering optical properties
ISSN号	1000-324X
其他题名	溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能
通讯作者	Xie, EQ (reprint author), Lanzhou Univ, Sch Phys Sci & Technol, Lanzhou 730000, Peoples R China.
中文摘要	利用直流磁控溅射方法制备了GaN薄膜.X射线衍射及Raman光谱结果表明薄膜样品为非晶结构;傅立叶红外光谱表明薄膜样品的主要吸收峰为Ga-N键的伸缩振动;光致发光测试得到了360nm处的紫外发光谱;测量薄膜样品的紫外-可见谱,并利用Tauc公式计算得到样品的光学带隙为3.74eV,这与光致发光谱得到的结果是一致的.
学科主题	Materials Science
语种	中文
WOS记录号	WOS:000248928700031
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4/handle/262010/104314]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	Pan, XJ,Zhang, ZX,Jia, L,et al. Optical properties of a-GaN film deposited by DC magnetron sputtering[J]. JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS/无机材料学报,2007,22(4):725-728.
APA	Pan, XJ,Zhang, ZX,Jia, L,Li, H,&Xie, EQ.(2007).Optical properties of a-GaN film deposited by DC magnetron sputtering.JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS/无机材料学报,22(4),725-728.
MLA	Pan, XJ,et al."Optical properties of a-GaN film deposited by DC magnetron sputtering".JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS/无机材料学报 22.4(2007):725-728.