溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响 | |
马紫微; 苏玉荣; 谢毅柱; 赵海廷; 刘利新; 李健; 谢二庆 | |
刊名 | 材料导报
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2012-05-25 | |
期号 | 10页码:16-18+22 |
关键词 | HfO2薄膜 溅射法 光学性能 光学带隙 |
其他题名 | 溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响 |
中文摘要 | HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92~2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150~5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102898] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 马紫微,苏玉荣,谢毅柱,等. 溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响[J]. 材料导报,2012(10):16-18+22. |
APA | 马紫微.,苏玉荣.,谢毅柱.,赵海廷.,刘利新.,...&谢二庆.(2012).溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响.材料导报(10),16-18+22. |
MLA | 马紫微,et al."溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响".材料导报 .10(2012):16-18+22. |
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