射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性

	射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性
	王海波; 孙建荣; 王兰喜; 魏福林; 王丽; 王建波; 李发伸; 沈宝龙
刊名	宁波大学学报(理工版)
	2010-01-10
期号	1 页码:115-117
关键词	NiZn铁氧体薄膜溅射穆斯堡尔谱
其他题名	射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性
中文摘要	使用交替靶射频溅射的方法在不同基底上制备得到了成分为NixZn1-xFe2O4的铁氧体薄膜,研究了NiZn铁氧体薄膜的生长条件,探讨了不同工艺条件对薄膜性能的影响,目的是提高薄膜饱和磁化强度Ms,降低薄膜矫顽力Hc,改善薄膜的软磁性能,以满足其在高频薄膜器件应用方面的需要.实验表明:沉积态薄膜即为尖晶石结构.并且通过不同实验条件对NiZn铁氧体薄膜性能影响的研究,得到了最佳的NiZn铁氧体薄膜的制备条件.
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102807]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	王海波,孙建荣,王兰喜,等. 射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性[J]. 宁波大学学报(理工版),2010(1):115-117.
APA	王海波.,孙建荣.,王兰喜.,魏福林.,王丽.,...&沈宝龙.(2010).射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性.宁波大学学报(理工版)(1),115-117.
MLA	王海波,et al."射频交替溅射法制备的NiZn铁氧体薄膜的结构与磁性".宁波大学学报(理工版) .1(2010):115-117.