衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响

	衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响
	张军; 谢二庆; 谢毅柱; 付玉军; 邵乐喜
刊名	强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams
	2008-04-15
卷号	20 期号:4 页码:657-660
关键词	ZnO薄膜 Zn3N2薄膜原位氧化光致发光衬底 In situ oxidation Photoluminescence Substrate Zn3N2 films ZnO films ZnO thin films
ISSN号	10014322
其他题名	Effects of substrate on ZnO thin films prepared by in situ oxidation of Zn3N2
通讯作者	Zhang, J. (buzman@tom.com)
中文摘要	采用射频反应溅射法在不同衬底上制备Zn3N2薄膜,然后对其原位氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射分析(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光谱(PL)等表征技术研究了不同衬底对ZnO薄膜的结晶特性和发光性能的影响。XRD研究结果显示:Zn3N2薄膜在500℃原位氧化3 h后完全转变为ZnO薄膜,在玻璃和熔融石英衬底上制备的多晶ZnO薄膜无择优取向,而单晶硅(100)衬底上的多晶ZnO薄膜具有较好的沿(002)方向的择优取向。PL测试结果显示:硅和熔融石英衬底上的多晶ZnO薄膜发光性能良好,激子复合产生的紫外发光峰很强,且半高宽较窄,而来自于深能级发射的绿色发光峰很弱;而玻璃衬底上的多晶Z...
学科主题	804.2 Inorganic Compounds;802.2 Chemical Reactions;741.3 Optical Devices and Systems;714.2 Semiconductor Devices and Integrated Circuits;712.1.2 Compound Semiconducting Materials;712.1 Semiconducting Materials;546.3 Zinc and Alloys;531 Metallurgy and Metallography;452.2 Sewage Treatment
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102715]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	张军,谢二庆,谢毅柱,等. 衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响[J]. 强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams,2008,20(4):657-660.
APA	张军,谢二庆,谢毅柱,付玉军,&邵乐喜.(2008).衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响.强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams,20(4),657-660.
MLA	张军,et al."衬底对原位氧化制备的ZnO薄膜结构和光学性质的影响".强激光与粒子束/Qiangjiguang Yu Lizishu/High Power Laser and Particle Beams 20.4(2008):657-660.