氮化硼薄膜的红外光谱研究 | |
邓金祥; 王瑶; 张晓康; 周涛; 汪旭洋; 姚倩; 陈光华 | |
刊名 | 光散射学报
![]() |
2008-03-15 | |
期号 | 1页码:56-59 |
关键词 | 氮化硼薄膜 红外光谱 氮气比例 |
其他题名 | 氮化硼薄膜的红外光谱研究 |
中文摘要 | 用磁控溅射法制备六角氮化硼薄膜,在衬底温度、衬底偏压、工作气压等条件一定的情况下改变工作气体(氮气+氩气)中氮气的比例,以制备高质量的六角氮化硼薄膜,薄膜以红外吸收光谱标识。实验结果表明,工作气体中氮气的比例对制得的六角氮化硼薄膜有很大影响,在氮气比例为20%时得到理想的六角氮化硼薄膜。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102707] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邓金祥,王瑶,张晓康,等. 氮化硼薄膜的红外光谱研究[J]. 光散射学报,2008(1):56-59. |
APA | 邓金祥.,王瑶.,张晓康.,周涛.,汪旭洋.,...&陈光华.(2008).氮化硼薄膜的红外光谱研究.光散射学报(1),56-59. |
MLA | 邓金祥,et al."氮化硼薄膜的红外光谱研究".光散射学报 .1(2008):56-59. |
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