V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究

	V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究
	许旻; 邱家稳; 贺德衍
刊名	真空科学与技术/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology
	2003-12-30
卷号	23 期号:6 页码:373-376
关键词	V2O5薄膜结构形貌电性能吸收因数 Absorption coefficient Optical band gap Surface microscopy Vanadium pentoxide film
ISSN号	02539748
其他题名	Microstructures and electrical and optical properties of vanadium pentoxide films
通讯作者	Xu, M. (mxu02@st.lzu.edu.cn)
中文摘要	在O2 /Ar混合气氛中 ,用脉冲磁控溅射金属V靶沉积出非晶的V2 O5薄膜。对所沉积的薄膜进行 4 5 0℃退火。利用X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计和电阻测量等手段对薄膜的结构和性能进行了分析 ,从 2 0 0nm～ 2 5 0 0nm光谱的透射和反射测量结果 ,计算出薄膜的吸收系数。结果表明 ,V2 O5薄膜纯度高 ,结晶好 ,高低温电阻变化 2个量级。光学能隙为2 4 6eV。
学科主题	701.1 Electricity: Basic Concepts and Phenomena;714.2 Semiconductor Devices and Integrated Circuits;741.1 Light/Optics;801.4 Physical Chemistry;804 Chemical Products Generally;931.2 Physical Properties of Gases, Liquids and Solids
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102409]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	许旻,邱家稳,贺德衍. V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究[J]. 真空科学与技术/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology,2003,23(6):373-376.
APA	许旻,邱家稳,&贺德衍.(2003).V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究.真空科学与技术/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology,23(6),373-376.
MLA	许旻,et al."V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究".真空科学与技术/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology 23.6(2003):373-376.