微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究

	微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究
	许旻; 崔敬忠; 贺德衍
刊名	红外与毫米波学报
	2003-12-25
期号	6 页码:419-422
关键词	氧化钒薄膜微测热辐射计电阻温度系数
其他题名	微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究
中文摘要	用射频磁控反应溅射在石英玻璃和硅片上沉积氧化钒薄膜 .利用X射线衍射 ,X射线光电子谱 ,原子力显微镜 ,分光光度计和电阻测量手段对沉积薄膜结构、形貌和性能进行了测试 .结果表明 ,沉积薄膜的电阻温度系数大于 1.8% /℃ ,方块电阻为 2 2± 5kΩ/□ .
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102408]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	许旻,崔敬忠,贺德衍. 微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究[J]. 红外与毫米波学报,2003(6):419-422.
APA	许旻,崔敬忠,&贺德衍.(2003).微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究.红外与毫米波学报(6),419-422.
MLA	许旻,et al."微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究".红外与毫米波学报 .6(2003):419-422.