纳米硅薄膜的拉曼谱研究

	纳米硅薄膜的拉曼谱研究
	徐刚毅; 王天民; 王金良
刊名	兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University
	2000-10-30
卷号	36 期号:5 页码:47-53
关键词	纳米硅薄膜拉曼谱声子限制模型
ISSN号	04552059
其他题名	Raman study of nanocrystalline silicon films
中文摘要	通过等离子增强化学汽相沉积法 ,制备了本征和掺磷的氢化纳米硅薄膜 (nc- Si∶ H) ,研究了晶粒尺寸和掺杂浓度对纳米硅薄膜拉曼谱的影响 .结果表明晶粒变小和掺杂浓度增加都使纳米晶粒的 TO模峰位逐渐偏离声子限制模型的计算值 .X-射线衍射和透射电镜像的结果表明晶粒变小导致硅晶粒应力增加 ,而掺杂使晶粒内部杂质和缺陷增多 ,这些因素破坏了晶粒内晶格的平移对称性 ,进一步减小声子的平均自由程 ,导致实验值偏离理论计算值 .晶格平移对称性的破缺还体现在 ,随晶粒尺雨减小或掺杂浓度增加 ,拉曼谱中 TA,LA振动模的相对散射强度增加 .
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102280]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	徐刚毅,王天民,王金良. 纳米硅薄膜的拉曼谱研究[J]. 兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,2000,36(5):47-53.
APA	徐刚毅,王天民,&王金良.(2000).纳米硅薄膜的拉曼谱研究.兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University,36(5),47-53.
MLA	徐刚毅,et al."纳米硅薄膜的拉曼谱研究".兰州大学学报/Lanzhou Daxue Xuebao/Journal of Lanzhou University 36.5(2000):47-53.