氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究 | |
邵乐喜; 刘小平; 谢二庆; 贺德衍; 陈光华 | |
刊名 | 湛江师范学院学报(自然科学版)
![]() |
2000-06-25 | |
期号 | 1页码:3 |
关键词 | 场电子发射 氮离子注入 CVD金刚石薄膜 激活 击穿 |
其他题名 | 氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究 |
中文摘要 | 研究了氮离子注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为 .实验表明 ,稳定发射的形成过程基本具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征 ,并提出了一种修正的激活模型 ,解释了实验结果 ,讨论了发射机理 . |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102266] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邵乐喜,刘小平,谢二庆,等. 氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究[J]. 湛江师范学院学报(自然科学版),2000(1):3. |
APA | 邵乐喜,刘小平,谢二庆,贺德衍,&陈光华.(2000).氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究.湛江师范学院学报(自然科学版)(1),3. |
MLA | 邵乐喜,et al."氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究".湛江师范学院学报(自然科学版) .1(2000):3. |
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