溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能

	溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能
	耿胜利; 肖春涛; 杨正
刊名	功能材料/Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials
	1997-10-25
卷号	28 期号:5 页码:465-467
关键词	射频溅射 FeSiAl膜结构软磁性能 Sendust alloys Soft magnetic properties
ISSN号	10019731
其他题名	Structure and soft magnetic properties of sputtered FeSiAl alloy films
通讯作者	Geng, Shengli
中文摘要	Ｓｅｎｄｕｓｔ合金是制做薄膜磁头和ＭＩＧ磁头的理想材料，本工作用射频溅射法制备了Ｓｅｎｄｕｓｔ成分的ＦｅＳｉＡｌ合金薄膜，研究了制备条件对膜结构和软磁性能的影响，并对其机理进行了讨论。发现只有在适当的阳极电压范围（４．２～４．４ｋＶ）和基板温度（２５０℃）下才能制备出结晶完善的样品，从而获得良好的软磁性能。
学科主题	708.4 Magnetic Materials;813.2 Coating Materials
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102196]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	耿胜利,肖春涛,杨正. 溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能[J]. 功能材料/Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials,1997,28(5):465-467.
APA	耿胜利,肖春涛,&杨正.(1997).溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能.功能材料/Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials,28(5),465-467.
MLA	耿胜利,et al."溅射FeSiAl合金薄膜的结构及软磁性能".功能材料/Gongneng Cailiao/Journal of Functional Materials 28.5(1997):465-467.