溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能

	溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能
	耿胜利; 肖春涛; 杨正
刊名	磁记录材料
	1996-11-15
期号	4 页码:10-12
关键词	软磁性能:4548 晶粒尺寸:4515 饱和磁化强度:4065 退火温度:3933 晶格形变:3468 射频溅射:1838 退火热处理:1806 结构和磁性能:1782 各向异性能:1673 氮分压:1504
其他题名	溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能
中文摘要	用射频溅射法在Ar＋N2混和气氛中制备了FeZrN膜，研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由（110）取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成，而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸，而且能抑制非磁性初生层的生长，改善了软磁性能的热稳定性。良好的软磁性能是跟细晶粒结构和适当的晶格形变密切相关的
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102153]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	耿胜利,肖春涛,杨正. 溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能[J]. 磁记录材料,1996(4):10-12.
APA	耿胜利,肖春涛,&杨正.(1996).溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能.磁记录材料(4),10-12.
MLA	耿胜利,et al."溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能".磁记录材料 .4(1996):10-12.