溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能 | |
耿胜利; 肖春涛; 杨正 | |
刊名 | 磁记录材料
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1996-11-15 | |
期号 | 4页码:10-12 |
关键词 | 软磁性能:4548 晶粒尺寸:4515 饱和磁化强度:4065 退火温度:3933 晶格形变:3468 射频溅射:1838 退火热处理:1806 结构和磁性能:1782 各向异性能:1673 氮分压:1504 |
其他题名 | 溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能 |
中文摘要 | 用射频溅射法在Ar+N2混和气氛中制备了FeZrN膜,研究了制备条件及退火温度对样品结构及磁性能的影响。样品膜均由(110)取向的α-Fe小晶粒组成。Zr的添加有效地抑制了FeZrN膜中Fe4N相的生成,而Zr和N的加入不仅有利于减小晶粒尺寸,而且能抑制非磁性初生层的生长,改善了软磁性能的热稳定性。良好的软磁性能是跟细晶粒结构和适当的晶格形变密切相关的 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102153] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 耿胜利,肖春涛,杨正. 溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能[J]. 磁记录材料,1996(4):10-12. |
APA | 耿胜利,肖春涛,&杨正.(1996).溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能.磁记录材料(4),10-12. |
MLA | 耿胜利,et al."溅射FeZrN薄膜的结构和磁性能".磁记录材料 .4(1996):10-12. |
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