溅射铁膜的结构和磁性能

	溅射铁膜的结构和磁性能
	肖春涛; 赵俊慧; 杨正
刊名	磁性材料及器件
	1995-12-30
期号	4 页码:4
关键词	高M_s 溅射铁膜微结构软磁性能
其他题名	溅射铁膜的结构和磁性能
中文摘要	简要回顾了磁头用薄膜材料的晚近发展。用射频溅射法制备了软磁性纯铁膜并考察了溅射条件和真空退火对铁膜微结构和磁性能的影响。所有铁膜都是（１１０）取向的。随着阳极电压ＶＡ的增大，晶格形变量减小，矫顽力Ｈｃ下降。ＶＡ在３．４～３．８ｋＶ范围内时Ｈｃ≤３１０Ａ／ｍ，饱和磁化强度Ｍｓ约１７２０ｋＡ／ｍ，略高于纯铁的块体值（１７００ｋＡ／ｍ）。退火过程中晶粒长大使软磁性能恶化，高温区因工扩散效应导致Ｍｓ下降。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102116]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	肖春涛,赵俊慧,杨正. 溅射铁膜的结构和磁性能[J]. 磁性材料及器件,1995(4):4.
APA	肖春涛,赵俊慧,&杨正.(1995).溅射铁膜的结构和磁性能.磁性材料及器件(4),4.
MLA	肖春涛,et al."溅射铁膜的结构和磁性能".磁性材料及器件 .4(1995):4.