高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究

	高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究
	魏福林; 石磊; 杨正
刊名	磁记录材料
	1993-12-31
期号	4 页码:5-8
关键词	铁氧体磁头:5081 磁头场:4370 高矫顽力:4229 缝隙长度:2781 记录特性:2432 磁带复制:2389 溅射薄膜:2239 极尖:2219 工作缝隙:2001 短波长:1969
其他题名	高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究
中文摘要	本文对铁氧体磁头在高矫顽力磁带上进行录制时磁头极尖的磁性饱和对信号录制造成的影响进行了讨论;介绍了在锰锌铁氧磁芯上溅射铁镍(FeNi)膜制作用于高矫顽力磁带复制的 MIG 磁头的研究结果。实验表明,溅射 FeNi 膜 MIG 磁头即使在较窄的缝隙长度时也可防止极尖饱和,提高磁头的短波长记录特性
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102032]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	魏福林,石磊,杨正. 高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究[J]. 磁记录材料,1993(4):5-8.
APA	魏福林,石磊,&杨正.(1993).高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究.磁记录材料(4),5-8.
MLA	魏福林,et al."高矫顽力磁带快速复制用MIG磁头的研究".磁记录材料 .4(1993):5-8.