双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析 | |
王维洁; 王天民; 韩培刚; 罗崇泰; 黄良甫; 刘定权 | |
刊名 | 材料科学进展
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1992-08-28 | |
期号 | 4页码:315-319 |
关键词 | 双离子束溅射淀积 DLC膜 薄膜生长 结构 性能 |
其他题名 | 双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析 |
中文摘要 | 用双离子束溅射淀积法,在轰击源含不同 CH_4流量比的条件下,于玻璃和 Si 基片上淀积了DLC 薄膜。用多种手段对所制备的膜进行了结构表征和性能分析。结果表明,轰击源中 CH_4流量比对DLC 膜的结构、形貌及其光、电性能有重要的影响。分析了影响机制,探讨了 DLC 膜的生长机理。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101976] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王维洁,王天民,韩培刚,等. 双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析[J]. 材料科学进展,1992(4):315-319. |
APA | 王维洁,王天民,韩培刚,罗崇泰,黄良甫,&刘定权.(1992).双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析.材料科学进展(4),315-319. |
MLA | 王维洁,et al."双束溅射淀积DLC膜的结构表征和性能分析".材料科学进展 .4(1992):315-319. |
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