离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响

	离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响
	黄良甫; 罗崇泰; 刘定权; 徐明; 杨益民; 李守中; 王天民; 王维洁; 刘贵昂
刊名	真空科学与技术
	1991-10-28
期号	5 页码:335-340
关键词	离子轰击:6574 电阻率:3280 红外透过率:2920 离子束轰击:2717 离子束溅射:2511 离子辅助轰击:2470 分析讨论:2227 膜电阻:2134 离子束辅助:2025 离子能量:2016
其他题名	离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响
中文摘要	在离子束溅射石墨靶淀积DLC膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。本文报导了离子束轰击对DLC膜的成膜速率、电阻率、折射率、红外透过率和抗腐性等影响的实验结果,分析讨论了离子轰击的影响机制。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101937]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	黄良甫,罗崇泰,刘定权,等. 离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响[J]. 真空科学与技术,1991(5):335-340.
APA	黄良甫.,罗崇泰.,刘定权.,徐明.,杨益民.,...&刘贵昂.(1991).离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响.真空科学与技术(5),335-340.
MLA	黄良甫,et al."离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响".真空科学与技术 .5(1991):335-340.