离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响 | |
黄良甫; 罗崇泰; 刘定权; 徐明; 杨益民; 李守中; 王天民; 王维洁; 刘贵昂 | |
刊名 | 真空科学与技术
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1991-10-28 | |
期号 | 5页码:335-340 |
关键词 | 离子轰击:6574 电阻率:3280 红外透过率:2920 离子束轰击:2717 离子束溅射:2511 离子辅助轰击:2470 分析讨论:2227 膜电阻:2134 离子束辅助:2025 离子能量:2016 |
其他题名 | 离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响 |
中文摘要 | 在离子束溅射石墨靶淀积DLC膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。本文报导了离子束轰击对DLC膜的成膜速率、电阻率、折射率、红外透过率和抗腐性等影响的实验结果,分析讨论了离子轰击的影响机制。 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101937] ![]() |
专题 | 物理科学与技术学院_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄良甫,罗崇泰,刘定权,等. 离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响[J]. 真空科学与技术,1991(5):335-340. |
APA | 黄良甫.,罗崇泰.,刘定权.,徐明.,杨益民.,...&刘贵昂.(1991).离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响.真空科学与技术(5),335-340. |
MLA | 黄良甫,et al."离子轰击对溅射淀积DLC膜速率和性质的影响".真空科学与技术 .5(1991):335-340. |
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