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有机发光材料8-羟基喹啉钕的合成、表征和薄膜制备
邢宏伟; 彭应全; 宋长安; 杨青森; 李训栓; 袁建挺
刊名液晶与显示
2009-04-15
期号2页码:157-162
关键词有机发光材料 8-羟基喹啉钕 薄膜制备 性能表征
其他题名有机发光材料8-羟基喹啉钕的合成、表征和薄膜制备
中文摘要介绍了制备高纯度有机发光材料8-羟基喹啉钕(Ndq3)和生长Ndq3薄膜的方法。通过X-射线衍射谱、红外吸收光谱、紫外吸收光谱以及荧光光谱测试分析,对Ndq3粉末和薄膜的结构和特性进行了表征。标定了Ndq3中喹啉环的存在;计算得出Ndq3的禁带宽度为2.8eV;证实了Ndq3分子中的Nd—O键为共价键而非离子键;测得Ndq3的荧光发射光谱位于472nm(蓝光区域);证明了光激发位于喹啉环上而不是金属Nd3+上。与Al和Zn的金属螯合物相比,Ndq3中的Nd3+成键共价键较强,极化力较弱。对不同衬底温度下生长的Ndq3薄膜做了XRD分析,发现Ndq3薄膜呈多晶态,且随温度升高,衍射单峰逐渐增强,...
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101386]  
专题物理科学与技术学院_期刊论文
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GB/T 7714
邢宏伟,彭应全,宋长安,等. 有机发光材料8-羟基喹啉钕的合成、表征和薄膜制备[J]. 液晶与显示,2009(2):157-162.
APA 邢宏伟,彭应全,宋长安,杨青森,李训栓,&袁建挺.(2009).有机发光材料8-羟基喹啉钕的合成、表征和薄膜制备.液晶与显示(2),157-162.
MLA 邢宏伟,et al."有机发光材料8-羟基喹啉钕的合成、表征和薄膜制备".液晶与显示 .2(2009):157-162.
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