直流磁控溅射沉积（Ti,Al）N膜的研究

	直流磁控溅射沉积（Ti,Al）N膜的研究
	蒋生蕊; 彭栋梁; 赵学应; 谢亮; 李强
刊名	金属学报
	1994-09-08
期号	17 页码:5
关键词	（Ti Al）N薄膜磁控溅射高温氧化
其他题名	直流磁控溅射沉积（Ti;Al）N膜的研究
中文摘要	研究了用直流磁控反应性溅射法在Ａｒ＋Ｎ２气氛中沉积（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的工艺。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有比ＴｉＮ膜高的耐磨性、硬度和高温抗氧化性。ＡＥＳ深度分析表明，由Ａｌ的选择性氧化形成的Ａｌ２Ｏ３保护层，是（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有优良高温抗氧化性能的原因．
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101159]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	蒋生蕊,彭栋梁,赵学应,等. 直流磁控溅射沉积（Ti,Al）N膜的研究[J]. 金属学报,1994(17):5.
APA	蒋生蕊,彭栋梁,赵学应,谢亮,&李强.(1994).直流磁控溅射沉积（Ti,Al）N膜的研究.金属学报(17),5.
MLA	蒋生蕊,et al."直流磁控溅射沉积（Ti,Al）N膜的研究".金属学报 .17(1994):5.