射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究

	射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究
	冯博学; 谢亮; 王君; 蒋生蕊; 陈光华
刊名	物理学报
	2000-10-12
期号	10 页码:2066-2071
关键词	NiO_xH_y膜电致变色
其他题名	射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究
中文摘要	研究了射频溅射制备的NiOx 膜的电致变色性能 ,发现富氧非理想化学配比的NiOx(x >1)膜具有变色活性 ,这种膜出现Ni3 + 和Ni2 + 的混合价态 ,当H+ 注入并占据Ni空位时 ,导致Ni3 + 的t2g能级被填满 ,Ni3 + 被阴极还原为Ni2 + 引起光学透明 ,即为漂白态 ;反之 ,H+ 被萃取出NiOx 膜 ,导致Ni2 + 的t2g能级出现空穴 ,Ni2 + 被氧化为Ni3 + 引起光吸收 ,则为着色态 .
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101088]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	冯博学,谢亮,王君,等. 射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究[J]. 物理学报,2000(10):2066-2071.
APA	冯博学,谢亮,王君,蒋生蕊,&陈光华.(2000).射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究.物理学报(10),2066-2071.
MLA	冯博学,et al."射频溅射微晶NiO_xH_y膜电致变色性能及其机理研究".物理学报 .10(2000):2066-2071.